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杭州之芯半导体申请一种陶瓷表面特征加工方法专利,提升陶瓷表面加工效果

0次浏览     发布时间:2025-04-04 14:44:00    

金融界2025年4月4日消息,国家知识产权局信息显示,杭州之芯半导体有限公司申请一项名为“一种陶瓷表面特征加工方法”的专利,公开号CN 119748332 A,申请日期为2024年12月。

专利摘要显示,本发明公开了一种陶瓷表面特征加工方法,包括有以下步骤:S1、将陶瓷放置在加工盘上;S2、对陶瓷需要保护的区域进行覆膜;S3、选用合适规格的喷砂介质;S4、喷砂机调节成小范围喷砂,喷嘴相对陶瓷移动,对陶瓷表面进行扫掠式加工,喷嘴的扫略范围覆盖陶瓷表面,所述加工盘为转动盘,所述转动盘能够带动陶瓷转动,所述喷嘴相对陶瓷表面形成螺线喷砂轨迹。在本申请中,通过将喷嘴的喷砂范围调小,使得小范围的喷砂无法全面覆盖到整个陶瓷表面,并且通过移动喷嘴从而使得喷嘴与陶瓷表面之间产生相对运动路径,并且通过喷砂范围沿着运动路径将整个陶瓷完全覆盖。

天眼查资料显示,杭州之芯半导体有限公司,成立于2019年,位于杭州市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本3699.69万人民币,实缴资本699.69万人民币。通过天眼查大数据分析,杭州之芯半导体有限公司参与招投标项目1次,专利信息29条,此外企业还拥有行政许可3个。

本文源自金融界